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一种新的带Notch机种设计

需求所属领域: 装备制造
需求所处阶段:研制阶段
需求缘由:产品升级换代、生产线技术改造
意向合作方式: 技术咨询、技术服务
意向合作院校:
拟投入资金额: 面议
参加活动:
发布人:JSPC王磊 在线
1、现有带Notch的机种,T-ITO 当层Notch 处均存在不同程度的块状Mura 2、Mura状况严重的,在Cell 点灯会造成横黑Mura,影响良率 问题点详述: 玻璃显影制程传送时液体晃动,Notch处高析光度显影液与面内交叠,导致AA区边界与面 内显影能力不同形成CD差异,从而造成外观可视Mura。 解决的要点: 减少Notch处面内外的显影液析光度差: 1、Notch处增加图形设计 2、增加图形的pixel Density 和面内相同 关键指标: 所有机种Notch处的析光度与面内相同,要求同类型设计的产品Notch处的pixel Density与面内相同 效益分析: 有效改善带Notch机种横黑Mura 不良
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需求详情

技术介绍
需求简要说明及主要技术参数
1、现有带Notch的机种,T-ITO 当层Notch 处均存在不同程度的块状Mura 2、Mura状况严重的,在Cell 点灯会造成横黑Mura,影响良率 问题点详述: 玻璃显影制程传送时液体晃动,Notch处高析光度显影液与面内交叠,导致AA区边界与面 内显影能力不同形成CD差异,从而造成外观可视Mura。 解决的要点: 减少Notch处面内外的显影液析光度差: 1、Notch处增加图形设计 2、增加图形的pixel Density 和面内相同 关键指标: 所有机种Notch处的析光度与面内相同,要求同类型设计的产品Notch处的pixel Density与面内相同 效益分析: 有效改善带Notch机种横黑Mura 不良
企业信息
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负责人信息
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