需求简要说明及主要技术参数 |
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1、现有带Notch的机种,T-ITO 当层Notch 处均存在不同程度的块状Mura
2、Mura状况严重的,在Cell 点灯会造成横黑Mura,影响良率
问题点详述:
玻璃显影制程传送时液体晃动,Notch处高析光度显影液与面内交叠,导致AA区边界与面
内显影能力不同形成CD差异,从而造成外观可视Mura。
解决的要点:
减少Notch处面内外的显影液析光度差:
1、Notch处增加图形设计
2、增加图形的pixel Density 和面内相同
关键指标:
所有机种Notch处的析光度与面内相同,要求同类型设计的产品Notch处的pixel Density与面内相同
效益分析:
有效改善带Notch机种横黑Mura 不良
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