需求简要说明及主要技术参数 |
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研究不同工艺条件下制造的内部组织结构不同、杂质含量不同、密度不同的情况下,金属钼靶材、铝靶材、铜靶材等纯金属靶材以及合金靶材在真空磁控溅射时的镀膜特性,包括薄膜方阻,溅射速率,薄膜均匀性等,通过调整参数,达到客户需求的低方阻,均匀性好的靶材。
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