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平板显示用金属靶材及合金靶材在磁控溅射时的特性研究

需求所属领域: 新材料
需求所处阶段:
需求缘由:
意向合作方式: 技术开发
意向合作院校:
拟投入资金额: 面议
参加活动:
发布人:常州苏晶电子材料有限公司 离线
研究不同工艺条件下制造的内部组织结构不同、杂质含量不同、密度不同的情况下,金属钼靶材、铝靶材、铜靶材等纯金属靶材以及合金靶材在真空磁控溅射时的镀膜特性,包括薄膜方阻,溅射速率,薄膜均匀性等,通过调整参数,达到客户需求的低方阻,均匀性好的靶材。
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需求详情

技术介绍
需求简要说明及主要技术参数
研究不同工艺条件下制造的内部组织结构不同、杂质含量不同、密度不同的情况下,金属钼靶材、铝靶材、铜靶材等纯金属靶材以及合金靶材在真空磁控溅射时的镀膜特性,包括薄膜方阻,溅射速率,薄膜均匀性等,通过调整参数,达到客户需求的低方阻,均匀性好的靶材。
企业信息
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