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第三代半导体用高导热氧化铝、氮化铝陶瓷基板的关键技术开发

需求所属领域: 新材料
需求所处阶段:批量生产阶段
需求缘由:制造工艺改进
意向合作方式: 技术转让、技术开发、技术咨询、技术服务
意向合作院校:
拟投入资金额: 面议
参加活动:
发布人:江苏省生产力促进中心科技人才培训中心 在线
陶瓷基板的研究及开发主要聚焦在Al2O3陶瓷基板和AlN陶瓷基板的产业化关键技术。Al2O3基板的导热系数达到20W/m·K,是铝基板(1-1.2W/m·K)的近20倍,AlN基板的导热系数更是达到200W/m·K,甚至更高。除了具有高导热特性之外,陶瓷基板还有耐高压、耐高温、防腐蚀,介质损耗低等优点,是大功率LED及第三代半导体器件的最佳封装板材。 目前国内在Al2O3陶瓷基板方面已经实现了产业化,但是在制造大尺寸防翘曲技术上仍然没有突破。在AlN基板方面,目前国内亟待突破的技术包括用于烧结AlN基板的AlN粉体制备技术和AlN基板制备技术。
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需求详情

技术介绍
需求简要说明及主要技术参数
陶瓷基板的研究及开发主要聚焦在Al2O3陶瓷基板和AlN陶瓷基板的产业化关键技术。Al2O3基板的导热系数达到20W/m·K,是铝基板(1-1.2W/m·K)的近20倍,AlN基板的导热系数更是达到200W/m·K,甚至更高。除了具有高导热特性之外,陶瓷基板还有耐高压、耐高温、防腐蚀,介质损耗低等优点,是大功率LED及第三代半导体器件的最佳封装板材。 目前国内在Al2O3陶瓷基板方面已经实现了产业化,但是在制造大尺寸防翘曲技术上仍然没有突破。在AlN基板方面,目前国内亟待突破的技术包括用于烧结AlN基板的AlN粉体制备技术和AlN基板制备技术。
企业信息
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负责人信息
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