离子注入设备

成果编号：19055

价格：面议

完成单位：中国电子科技集团公司第四十八研究所

单位类别：中国农科院系统院所

完成时间：2017年

成熟程度：批量生产阶段

服务产业领域：电子信息

我要对接关注发送消息

发布人：易文杰离线

发送消息

离子注入是用一定能量的离子束入射到材料中去，与材料中的原子或分子发生一系列物理的和化学相互作用，入射离子逐渐损失能量，最后停留在材料中，并引起材料表面成分、结构和性能发生变化，从而优化材料表面性能，或获得某些新的优异性能的技术，主要用于半导体掺杂、材料改性等领域。其优点是点是能精确控制杂质的总剂量、深度分布和面均匀性，同时可实现自对准技术。 48所已针对集成电路、第三代半导体、材料改性等领域的应用需求形成系列化离子注入设备研制生产能力，典型机型为大角度中束流离子注入机、低能大束流离子注入机、SiC高温高能离子注入机、太阳能离子注入机、材料改性离子注入机等，可针对客户的不同需求，提供定制服务。

577 次浏览分享到

成果介绍

科技计划：

成果形式：

合作方式：技术服务

参与活动：

专利情况：未申请专利

成果简介

综合介绍

创新要点

技术指标

基片尺寸：4~12英寸；注入元素：B、P、N、O、Al、H等；注入均匀性：≤1%。

其他说明

完成人信息

姓名：对接成功后可查看

所在部门：对接成功后可查看

职务：对接成功后可查看

职称：对接成功后可查看

手机：对接成功后可查看

E-mail：对接成功后可查看

电话：对接成功后可查看

传真：对接成功后可查看

邮编：对接成功后可查看

通讯地址：对接成功后可查看

联系人信息