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面向长波长LED应用的石墨烯/SiC衬底上应变弛豫GaN薄膜的外延生长

成果编号:40274
价格:面议
完成单位:吉林大学
单位类别:985系统院所
完成时间:2022年
成熟程度:研制阶段
服务产业领域: 装备制造、新材料
发布人:江苏省生产力促进中心科技金融服务处 离线
成功在石墨烯/SiC衬底上实现了应变弛豫GaN薄膜的外延生长,并发现了其在长波长LED中的应用潜力。
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成果介绍

科技计划:
成果形式:新技术、新工艺、新材料
合作方式:技术开发、技术咨询、技术服务、技术入股
参与活动:
专利情况: 未申请专利
成果简介
综合介绍
成功在石墨烯/SiC衬底上实现了应变弛豫GaN薄膜的外延生长,并发现了其在长波长LED中的应用潜力。
创新要点
研究发现,石墨烯的插入极大地降低了GaN薄膜中的双轴应力,有效提高了InGaN阱层In原子并 入,使量子阱发光波长显著红移。该成果有助于推动高性能、长波长氮化物发光器件发展。相关结果以 '''Demonstration of epitaxial growth of strain-relaxed GaN films on graphene/SiC substrates for long wavelength light-emitting diodes''为题发表在国际顶尖学术期刊《Light: Science & Applications》。
技术指标
应用领域 照明、显示领域。 知识产权情况 已申请发明专利:张源涛,余煙,邓高强,张宝林,一种在石墨烯上生长GaN的方法,2020-09-14, 中国,202010958847.6。
其他说明
完成人信息
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