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ITO等氧化物靶材及钼基合金靶材

成果编号:39749
价格:面议
完成单位:郑州大学
单位类别:211系统院所
完成时间:2023年
成熟程度:其他
服务产业领域: 电子信息、新材料
发布人:李庆奎 离线
氧化铟锡材料,简称ITO,是应用于液晶、有机发光显示和触控面板等的重要基材。中国是铟资源大国,但相关研发滞后,国际上80%的靶材市场被日韩等国垄断,能否建立ITO靶材制备自主体系的建立,关系到国家战略和显示器产业安全。
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成果介绍

科技计划:
成果形式:新技术、新材料
合作方式:技术转让、技术开发、技术服务
参与活动: 第二届江苏产学研合作对接大会
专利情况: 正在申请 ,其中:发明专利 8
已授权专利,其中:发明专利 10
专利号:
CN111394706B
成果简介
综合介绍
氧化铟锡材料,简称ITO,是应用于液晶、有机发光显示和触控面板等的重要基材。中国是铟资源大国,但相关研发滞后,国际上80%的靶材市场被日韩等国垄断,能否建立ITO靶材制备自主体系的建立,关系到国家战略和显示器产业安全。
创新要点
聚焦战略新兴平板显示器用关键基础材料研究,创新发明了ITO靶材粉体制备、 素坯注浆成形、无压氧气氛烧结与靶坯绑定——关键技术体系,建立了ITO靶材制备新型工艺流程,形成了完善的全流程工艺装备体系及控制标准,实现了ITO靶材粉末冶金技术的创新应用,其技术指标达到了国际先进水平。该技术突破性解决了高性能ITO靶材制备全流程工序的关键技术与装备“卡脖子”问题,填补了国内空白。项目产品在国内首次成功应用于世界最大面板企业京东方的高世代TFT线,打破了国外技术壁垒,完全可以替代进口,推进了我国战略新兴显示产业用关键基材的国产化进程。
技术指标
ITO靶材:相对密度 >99.5%;抗弯强度 182 MPa 钼合金靶材:纯度大于99.98%;晶粒尺寸30-50微米;相对密度大于99.5%
其他说明
完成人信息
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