需求简要说明及主要技术参数 |
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1.光学精密位移测量技术
在柔性基底上高效率地实现±5um对准微纳结构制造,解决目前柔性微纳制造中对准精度低的技术难题。特别针对卷对卷或卷对平的紫外微纳压印技术。
2.高分子材料制备,合成与改性
纳米油墨的合成与调色;烧结温度低于80oC的纳米银浆制备技术;高折射率(>1.65)和低折射率(<1.35)的紫外固化胶水的制备。
光学设计
3.折衍混合光学系统的设计;菲涅尔透镜的设计;DOE元件设计;新型光学效果开发。
4.微纳加工新工艺和新材料
具有量产性的新型微纳结构(100nm~100um)的材料,加工技术工艺。
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