需求简要说明及主要技术参数 |
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OVD深渗氟工艺。要求渗氟的深度(折射率)达到-0.25%,实现最终开发低损耗、大有效面积G654E光纤,在1550nm附近的损耗最小,小于0.183dB/km,有效面积达到150um2。
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所在地区 | 对接成功后可查看 | 详细地址 | 对接成功后可查看 |