PI Release激光设备的研发

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PI Release激光设备的研发

需求所属领域：电子信息

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意向合作方式：技术开发

意向合作院校：

拟投入资金额：面议

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1. PI Release激光设备的研发；2. PI分离的方式为Laser线扫模式技术研发；3. Laser光需求：准分子激光，波长308纳米；4. Laser光特性：穿透性低，深度浅，热量低；5. 工作原理：光化反应，透过准分子激光脉冲能量破环PI表层的分子键；6. Laser光规格：Laser焦距范围 +/-0.2mm ，光斑宽度0.3mm，能量密度 200-450 mj/cm2；7. 精度需求：高度及焦距点确认是通过laser照射的光斑宽度进行确认

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需求详情

技术介绍

需求简要说明及主要技术参数
1. PI Release激光设备的研发；2. PI分离的方式为Laser线扫模式技术研发；3. Laser光需求：准分子激光，波长308纳米；4. Laser光特性：穿透性低，深度浅，热量低；5. 工作原理：光化反应，透过准分子激光脉冲能量破环PI表层的分子键；6. Laser光规格：Laser焦距范围 +/-0.2mm ，光斑宽度0.3mm，能量密度 200-450 mj/cm2；7. 精度需求：高度及焦距点确认是通过laser照射的光斑宽度进行确认

需求简要说明及主要技术参数

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