纳米稀土抛光液

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需求所属领域：新材料

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需求缘由：

意向合作方式：技术开发、技术咨询

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发布人：常州市卓群纳米新材料有限公司离线

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CeO2含量≥99.9％，晶粒尺寸≤10nm，形貌：球形：抛光液粒度D50=10nm～300nm，Dmax＜500nm，有害杂质离子浓度＜40ppm，硅晶片抛光速度≥100nm/min，表面粗糙度Ra≤1nm，高性能玻璃基片抛光速度≥25nm/min，表面粗糙度Ra≤0.5nm，达到或接近国外先进水平。

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技术介绍

需求简要说明及主要技术参数
CeO2含量≥99.9％，晶粒尺寸≤10nm，形貌：球形：抛光液粒度D50=10nm～300nm，Dmax＜500nm，有害杂质离子浓度＜40ppm，硅晶片抛光速度≥100nm/min，表面粗糙度Ra≤1nm，高性能玻璃基片抛光速度≥25nm/min，表面粗糙度Ra≤0.5nm，达到或接近国外先进水平。

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